产品详情
  • 产品名称:CVD化学气相沉积 等离子增强化学气相沉积炉 快速降温薄膜沉积法

  • 产品型号:TF1200-PECVD
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简单介绍:
本设备是借助射频等使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜。为了使化学反应能在较低的温度下进行,利用了等离子体的活性来促进反应,因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积(PECVD)。
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